ПВД вакуумска линија за непрекинуто распршивање магнета

ПВД вакуумска линија за континуирано распршивање магнетрона, усредсређена на магнетронско распршивање, процес функционише у окружењу високог{0}}вакума где комбинована електрична и магнетна поља ограничавају електроне да бомбардују циљни материјал, ова акција распршује атоме или молекуле са мете, таложи их на површину покретне подлоге.

Компатибилан са ДЦ, МФ и РФ изворима напајања, систем може депоновати металне филмове, филмове од легура, оксидне диелектричне филмове и вишеслојне композитне функционалне филмове.

Систем континуираних комора са сегментираном изолацијом за одржавање градијената вакуума, са независним зонама за пуњење, премазивање и истовар, чиме се омогућава непрекидна, континуирана производња.

Карактеристике опреме

Континуирана производња елиминише потребу да се вакуум више пута прекида
Сегментирана вакуумска брава{0}}комора омогућава непрекидан транспорт супстрата у и из опреме, елиминишући време чекања на усисавање и вентилацију повезано са серијском обрадом и значајно повећавајући производни капацитет.

Ниско{0}}процес наношења премаза
Пораст температуре подлоге се може контролисати, спречавајући оштећење флексибилних{0}}осетљивих и пластичних подлога као што су ПЕТ, ПИ, ПЦ и акрил. Такође је компатибилан са подлогама од стакла, керамике и металних лимова.

Слој филма је густ и уједначен, са јаком адхезију
Оптимизација магнетног поља{0}}велике површине обезбеђује одличну униформност дебљине филма на целој подлози.

Флексибилна конфигурација мете и широк спектар материјала за премазивање

Модуларни дизајн машине, висок степен прилагођавања
Може се прилагодити према величини подлоге купца, ширини, производном капацитету и захтевима система филма.

ПЛЦ аутоматизација контроле
Тоуцхсцреен ХМИ; параметри процеса се могу чувати и пратити.

 

Тврда плоча: стакло, керамика, ПЦ плоча

 

Стакло за грађевинске и кућне апарате:

Стакло које штеди{0}}Е енергију{1}}, панели кућних апарата, украсна огледала, аутомобилско стакло, ХУД оптичко стакло

 

Фотонапонска индустрија: фотонапонски поклопац ТЦО проводни филм

 

Потрошачка електроника: стакло на додир, ПЦ/ПММА декоративни проводни листови

 

Керамичка подлога: ДПЦ керамичка бакрена обрада, метализовани премаз на керамичкој плочи

 

Индустрија декорације: декоративни филм за плоче велике површине, функционални филм против -корозије

 

Вакуумско премазивање бакра, сребра и других проводних материјала на површини керамике електричних компоненти и керамичких плоча.

 

Такође је погодан за вакуумско наношење различитих слојева металног филма на површину других плоча{0}}као што су обрадак (стакло, акрилна плоча, итд.);

Магнетно поље ограничава плазму

Ово је основна карактеристика магнетронског распршивања. Применом јаког магнетног поља специфичног облика (обично облика прстена или тркачке стазе) у близини површине мете, електрони су ограничени близу површине мете да би направили спирално кретање, што у великој мери повећава вероватноћу судара и јонизације електрона са атомима радног гаса (обично аргона).

Висока стопа јонизације и висока стопа таложења

Затварање магнетног поља значајно повећава густину плазме и брзину јонизације, чинећи процес распршивања ефикаснијим.

То значи да се при релативно ниском притиску гаса и ниском напону/снази распршивања, могу постићи много веће стопе распршивања и таложења од конвенционалног ДЦ распршивања.

Процес ниске температуре

Пошто се већина енергије користи за јонизацију гасних и метаних атома распршивања, релативно мало топлоте се преноси на супстрат.

Добар квалитет филма

Добра густина, јака адхезија, висока чистоћа и добра униформност.

Широк спектар прилагодљивости материјала

Добра контрола процеса

Производна линија премаза за магнетрон распршивање постала је једна од главних технологија за припрему функционалних танких филмова (као што су оптички филмови, проводне фолије, тврди филмови отпорни- на хабање, декоративни филмови, анти-филмови против корозије, магнетни филмови, полупроводничке фолије, итд.) у савременој индустрији, због својих карактеристика као што су ниска температура процеса у језгру и предности ниске температуре у процесу. (компактна, јака адхезија), широка прилагодљивост материјала, добра униформност и управљивост.